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KCF系列硅片专用超声波清洗机

KCF系列硅片专用超声波清洗机

功能特点:

各槽上下抛动,工件在抛动过程中使污垢彻底脱落

槽体正面设有控制面板,可根据清洗工艺设置

每个槽子底部设有接渣口,便于排渣且能及时沉淀污垢

使用全水基溶剂环保清洁工艺

适用范围:

硅片、电子精密仪器等

工艺流程:

超声清洗(加热)-超声清洗(加热)-超声清洗(加热)-超声清洗(加热)-超声清洗(加热)-超声清洗(加热)

本站关键词:超声波清洗机,超声波清洗设备
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